怎么涂覆光刻胶

怎么涂覆光刻胶

超声波喷涂技术用于半导体光刻胶涂层。与传统的旋涂和浸涂工艺相比，它具有均匀性高、微观结构良好的封装性和可控制的涂覆面积大小等优点。在过去的十年中，已经充分证明了采用超声喷涂技术的3D微结构表面光刻胶涂层，所制备的光刻胶涂层在微观结构包裹性和均匀性方面都明显高于传统的旋涂。

超声波喷涂系统可以精确控制流量，涂布速度和沉积量。低速喷涂成形将雾化喷涂定义为精确且可控制的模式，以在产生非常薄且均匀的涂层时避免过度喷涂。超声喷涂系统可以将厚度控制在亚微米到100微米以上，并且可以涂覆任何形状或尺寸。

超声波喷涂光刻胶的优点：

• 高均匀性和均一性

• 非接触喷涂

• 微流喷涂，多种液体进料方案

• 高速控制精度

• 高液体利用率

• 化学和涂层性能的高度灵活性

• 不堵塞喷头

• 传输效率高，浪费少

• 高度可重复的成熟喷涂工艺